X 射線螢光

依據 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 標準的能量分散式 X 射線螢光分析 (XRFA)

測量方法:

X 射線螢光分析的基礎在於,當材料樣本中的原子被初級 X 射線激發時,來自最內層電子層的電子將被釋放,所產生的空位將被來自外層電子層的電子填充。

Atomic model for the X-Ray Fluorescence Analysis method.
Atomic model for the X-Ray Fluorescence Analysis method.

在這些轉換期間,會產生各元素特定的螢光輻射。偵測器讀取螢光輻射並提供有關樣本成分的資訊。

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