XUV

XUV® 系列設備配備真空測量室,採用 X 射線螢光分析法 (RFA) 鑑定鈉之前的輕元素。室內空氣因具有吸收輻射的特性,所以一般來說無法使用此分析法。有鑑於此,這款儀器非常適合要求極高的塗層厚度測量以及材料分析作業。

XUV

特性:

  • 偵測限制低、準確性一致,且測量在各方面均能升級,因此特別適合用於研發作業
  • 配備真空室和高效能矽漂移偵測器,能精準測量,即使是輕元素亦如此
  • 可程式化 X、Y 和 Z 軸,進行自動化系列測試
  • 可換式光圈和濾光鏡,可針對多種材料的要求和測量條件進行調整

應用:

塗層厚度測量

  • 鈉之前的輕元素塗層,奈米級
  • 鋁塗層和矽塗層

材料分析

  • 貴重寶石的真偽和來源地測定
  • 一般材料分析和鑑定
  • 高解析度微量分析

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